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場發(fā)射電鏡真的那么好用嗎?

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  場發(fā)射電鏡是電子顯微鏡的一種,是以場發(fā)射電子發(fā)射體發(fā)射電子,并以電子束為光源,在真空狀態(tài)下通過電磁透鏡控制電子束匯集成很小的束斑照射并透過樣品。由于電子的德布羅意波長非常短,可以獲得樣品原子級微觀形貌。其原理是利用二次電子或背散射電子成像,對樣品表面放大一定的倍數(shù)進(jìn)行形貌觀察,同時利用電子激發(fā)出樣品表面的特征X射線來對微區(qū)的成分進(jìn)行定性定量分析。具有電子束斑小、高分辨率、穩(wěn)定性好等特點(diǎn)。
 
  場發(fā)射電鏡有以下幾種用途:
 
  1.納米材料基本特性分析:對有機(jī)、無機(jī)、納米材料進(jìn)行微觀形態(tài)研究,獲得其表面形貌。利用TEM獲得材料整體形貌,由高分辨像獲得晶面間距及以選區(qū)電子衍射像對材料進(jìn)行物相標(biāo)定,得知其屬于立方晶系。
 
  2.合金成分分析:反應(yīng)堆包殼材料特性研究,在合金注入多種金屬元素,通過TEM進(jìn)行形貌及成分分析,可明顯觀察到合金基體中析出相的不同形貌及分布,通過EDS點(diǎn)掃描分析不同形貌析出相的成分信息。為了解區(qū)域內(nèi)合金各元素的分布情況,可采用面掃描方式進(jìn)行分析,獲得各元素在合金基體內(nèi)的分布情況。
 
  3.其他用途:碳納米管,石墨SEM形貌觀察;LED熒光填充物進(jìn)行成分分析;粉末樣品的粒度分析測量;金屬鍍層厚度測量;金屬間化合物觀察與測量;斷口分析等等。
 
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